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SF6氣體報警濃度標準范圍：SF6超過 1000ppm  氧氣低于18vol

元素氟和硫直接反應法。

直接電解法　將硫、二氯化硫、一氯化硫、二硫化碳或硫化氫等加入到無水氟化氫中，以鎳為陽極進行電解即可制得六氟化硫。用硫化氫與無水氫氟酸電解時，以鎳作極，鐵作陰極，溫度為－10～20℃，電壓為7～20V。電解產物應除去雜質;催化氧化法　金屬氧化物為催化劑，于300℃下，用空氣氧化四氟化硫，該法缺點是收率過低。

熱解法，在500～2000℃使SF4熱解，但該法的轉換率及收率皆低，采用微波放電分解SF4亦可。氟化鈷法　將硫磺或其他硫化物在三氟化鈷和二氯化鈷存在下與過量氟作用以制備六氟化硫。二氧化硫與氟燃燒法。聯產法　氯氟代甲烷和六氟化硫聯產，氟化碳（COF2）與六氟化硫聯產。

作用用途編輯

1、新一代超高壓絕緣介質材料。作為良好的氣體絕緣體，被廣泛用于電子、電氣設備的氣體絕緣。電子級高純六氟化硫是一種理想的電子蝕刻劑，廣泛應用于微電子技術領域，用作電腦芯片、液晶屏等大型集成電路制造中的等離子刻蝕及清洗劑。在光纖制備中用作生產摻氟玻璃的氟源，在制造低損耗優質單模光纖中用作隔離層的摻雜劑。還可用作氮準分子激光器的摻加氣體。在氣象、環境檢測及其他部門用作示蹤劑、標準氣或配制標準混合氣。在高壓開關中用作滅弧和大容量變壓器絕緣材料。也可用于粒子加速器及避雷器中。利用其化學穩定性好和對設備不腐蝕等特點，在冷凍工業上可用作冷凍劑（操作溫度－45~0℃之間）。由于對α粒子有高度的停止能力，還用于放射化學。此外還作為一種反吸附劑從礦井煤塵中置換氧。

2、可用于有色金屬的冶煉和鑄造工藝，也可用于鋁及其合金熔融物的脫氣和純化。在微電子業中，可用六氟化硫蝕刻硅表面并去除半導體材料上的有機或無機膜狀物，并可在光導纖維的制造過程中，作為單膜光纖隔離層摻雜劑。加有六氟化硫的電流遮斷器額定電壓高，且不易燃燒，另外，六氟化硫還用于各種加速器、超高壓蓄電器、同軸電纜和微波傳輸的絕緣介質。目前六氟化硫是應用較為廣泛的測定大氣污染的示蹤劑，示蹤距離可達100km。六氟化硫化學穩定性好，對設備不腐蝕，在冷凍工業中可作為冷凍劑(操作溫度在-45～0℃之間)，作制冷劑替代氟利昂，對臭氧層完全沒有破壞作用，符合環保和使用性能的要求，是一種很有發展潛力的制冷劑。用作電氣絕緣介質和滅弧劑，測定大氣污染程度的示蹤劑。

3、主要用于高壓開關中滅弧，在大容量變壓器和高壓電纜中作為絕緣材料使用。可在核粒子加速器及避雷器X射線設備中作為氣體的絕緣材料，利用SF6化學穩定性好，對設備不腐蝕，在冷凍工業中可作為冷凍劑（操作溫度在－45～0℃之間），SF6對α-粒子有高度的停止能力，故在放射化學中也有應用；也可作為一種反吸附劑從礦井煤塵中置換氧。

4、用作電子設備和雷達波導的氣體絕緣體。 

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